EN
首 页
产品中心
产品中心
单平面研磨/抛光机
双平面研磨机/抛光机
高精度减薄机
双端面研磨机
半导体CMP抛光机
耗材
解决方案
新闻中心
新闻中心
公司动态
媒体报道
参展信息
关于公司
关于公司
公司介绍
联系我们
留言板
服务中心
服务中心
常见问答
视频专区
服务协议
PRODUCT CENTER / 产品中心
产品中心
单平面研磨/抛光机
B系列
Q系列
双平面研磨机/抛光机
B系列
高精度减薄机
W系列
L系列
双端面研磨机
Y系列
半导体CMP抛光机
L4四工位
耗材
研磨盘
研磨液
研磨粉
抛光垫
研磨、抛光粉
用于表面要求不高的产品研磨及抛光,材料有氧化铝、氧化铈、碳化硅等
描述
参数
选配
样品
用于表面要求不高的产品研磨及抛光,材料有氧化铝、氧化铈、碳化硅等
参选型号:
Q系列 单平面研磨机-KD24QX
双面研磨机-B系列
双端面研磨机 7系列 KS700Y