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单平面研磨/抛光机
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半导体CMP抛光机
耗材
研磨、抛光粉
用于表面要求不高的产品研磨及抛光,材料有氧化铝、氧化铈、碳化硅等
描述
参数
选配
样品
用于表面要求不高的产品研磨及抛光,材料有氧化铝、氧化铈、碳化硅等
参选型号:
Q系列 单平面研磨机-KD24QX
双面研磨机-B系列
双端面研磨机 Y系列 KS700Y